GLOphotonicsは、フランス、リモージュに拠点を置き、特殊なファイバー技術とガスフォトニクスに基づいて、中空フォトニック光結晶ファイバー(HC-PCF)やフォトニックマイクロセル(PMC)を製造開発しています。CNRやリモージュ大学のXLIMと協力し、常に機能の向上に努め、優位性の高い製品を提供します。
GLOphotonics
GLOphotonics社について
注目の動画
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超短パルスレーザーや257nm～2500nmまで伝送可。ハイパワー、高エネルギー対応、低分散、パワー損失が極めて少ない中空コアフォトニック結晶ファイバー。
フォトニッククリスタルファイバー(超短パルス用) GLOphotonics ファイバーレーザー用フォトニックファイバ (PCF)
対応波長域 257nm-2000nm GLOphotonics
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1psec～30fsecの超短パルスレーザーをパルス圧縮可能なパルスコンプレッサー
パルス圧縮装置 GLOphotonics 超短パルスレーザーコンプレッサー
GLOphotonics
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数１００Ｗ以上の高出力ＣＷレーザーおよびパルスレーザーを低損失でファイバー伝送できるビームデリバリーシステム（BDS）
高出力レーザー用ビームデリバリーシステム GLOphotonics BDS Beam Delivery System
BDS-HP
ファイバー長 2m, 3m, 5m 出力ビームクオリティ M2＜1.3 動作波長 515/532nm / 780-800nm / 1030/1064nm / 1550nm / 2μm 透過率 >85% ビームポインティング <5μrad BDS-HP-STB
ファイバー長 2m, 3m, 5m 出力ビームクオリティ M2＜1.3 動作波長 515/532nm / 780-800nm / 1030/1064nm / 1550nm / 2μm 透過率 >85% ビームポインティング <200μrad BDS-HP-STB-PM
ファイバー長 2m, 3m, 5m 出力ビームクオリティ M2＜1.3 動作波長 1030/1064nm 透過率 >85% ビームポインティング <200μrad GLOphotonics
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アプリケーション、レーザー光源の仕様、ハウジングなどのご要望にあわせたフォトニックマイクロセルを提案できます。
フォトニッククリスタルファイバー(超短パルス用) GLOphotonics フォトニックマイクロセル
GLOphotonics
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フェムト秒レーザー用低分散、低損失のパッチコード
フォトニッククリスタルファイバー(超短パルス用) GLOphotonics パッチコード
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